Kapcsolat
Hogyan vásároljunk
Kézbesítés
Vásárlási tanácsadó
Materials Processing Using Plasma Focus
Plasma Characterization and Processing of Industrial Materials
Angol
167 b
30 nap a termék visszaküldésére
A vásárlók ilyet vásároltak
/
Puha kötésű
9 582
Ft
binding.
12 617
Ft
/
Puha kötésű
12 645
Ft
The present research work reports the parametric study of ion beams emitted from two different Mather type plasma focus devices and their utilization in materials processing. Experiments have been conducted by using a conventional 2.3 kJ UNU/ICTP plasma focus device and the NX2 device (a repetitive plasma focus). The ion parameters such as energy, energy distribution, number density and current density are evaluated in the ambient gas pressure by employing a BPX65 photodiode and a Faraday cup (FC) using time of flight technique. A major motivation is to establish the optimum processing conditions for ion nitriding, surface modification, phase changes and carburizing of materials of industrial interest like Ti, AlFe1.8Zn0.8 alloy and SS-321 in plasma environment. The processed samples are characterized for structural and morphological changes, compositional profile and surface hardness by employing XRD, SEM FESEM, EDX, XPS, Raman spectroscopy and Vickers microhardness test. The SRIM code and microindentation measurements are used to estimate the depth profile of the modified layers.
Információ a könyvről
Angol
Kategória
Ajándékozza oda ezt a könyvet még ma
Nagyon egyszerű
1 Tegye a kosárba könyvet, és válassza ki a kiszállítás ajándékként opciót 2 Rögtön küldjük Önnek az utalványt 3 A könyv megérkezik a megajándékozott címéreEzt is ajánljuk
/
Kemény kötésű
63 496
Ft
/
Puha kötésű
14 921
Ft
/
Kemény kötésű
12 839
Ft
/
Puha kötésű
7 791
Ft
