Ingyenes szállítás a Packetával, 19 990 Ft feletti vásárlás esetén
Posta 1 795 Ft
DPD 1 995 Ft
PostaPont / Csomagautomata 1 690 Ft
Postán 1 690 Ft
GLS futár 1 590 Ft
Packeta 990 Ft
Hogyan vásároljunk
Segítség
Kézbesítés
Posta 1 795 Ft
DPD 1 995 Ft
PostaPont / Csomagautomata 1 690 Ft
Postán 1 690 Ft
GLS futár 1 590 Ft
Packeta 990 Ft
Ingyenes szállítás a Packetával, 19 990 Ft feletti vásárlás esetén
Vásárlási tanácsadó
Segíthetünk?
+36 1 6333 184
Saját fiók
Legyen része a világ minden tájáról összegyűlt könyvbarátok közösségének és élvezze a rengeteg előnyt.
Ingyenes fiók létrehozása
▸
Üres :-(
0
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Nyelv
Német
Német
Könyv
Puha kötésű
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vap...
Teljes leírás
Libristo kód: 02821308
?
122 b
122 b
19 947 Ft
▸
-4
%
18 951
Ft
50 % esély
Keressük az egész világon
Mikor kapom meg a terméket?
30 nap a termék visszaküldésére
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition gesehen. Eine während des Heißdraht-CVD-Prozesses an den Drähten ablaufende, unerwünschte Phasenumwandlung führt nach wenigen Stunden Beschichtung zu mechanischem Versagen der Drähte und damit zu einem Prozessabbruch. In dieser Arbeit wurden Lösungen erarbeitet, um den Beschichtungsprozess über Tage hinweg stabil zu betreiben.
Információ a könyvről
Teljes megnevezés
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Szerző
Artur Laukart
Nyelv
Német
Német
Kötés
Könyv - Puha kötésű
Kiadás éve
2013
Oldalszám
184
EAN
9783839605288
Libristo kód
02821308
Kiadó
Fraunhofer Verlag
Méretek
148 x 210
