Kapcsolat
Hogyan vásároljunk
Kézbesítés
Vásárlási tanácsadó
Angol
85 b
Akár 30 napos visszaküldési lehetőség
A vásárlók ilyet vásároltak
/
Puha kötésű
4 097
Ft
/
Puha kötésű
4 824
Ft
/
Puha kötésű
17 881
Ft
This book describes the principles and basic technologies of extreme ultraviolet lithography (EUVL). The topics include why research on EUVL was begun and why an exposure wavelength of 13.5 nm was selected; the design of the optical system, which employs reflective mirrors; the use of a multilayer film to make a reflective-type mask and how masks are inspected; an historical overview of the development of light sources; resist materials; and the recent performance of lithographic tools for mass production. Three innovations were key to the development: of Mo/Si multilayer films with a high reflectivity and to the shaping and metrology of aspherical mirrors with a precision of less than 0.1 nm. The technology for measuring figure error and the fabrication technology now meet the performance targets. Thus, EUVL has become the most promising lithographic technology for device fabrication at the 7-nm node.
Információ a könyvről
Angol
Ajándékozza oda ezt a könyvet még ma
Nagyon egyszerű
1 Tegye a kosárba könyvet, és válassza ki a kiszállítás ajándékként opciót 2 Rögtön küldjük Önnek az utalványt 3 A könyv megérkezik a megajándékozott címéreEzt is ajánljuk
Szia! Libroamiko vagyok, a könyvtanácsadód.
Miben segíthetek?